中国半导体付出了巨大的努力!清华大学克服困难,直接标志着国际先进水平。

中国半导体发力了!清华大学攻克难关,直接对标国际先进水平

图为国产超高精度晶圆研磨减薄机。

随着国内对芯片行业的不断关注,又一个重磅消息传来!原来中国半导体行业有好消息。清华大学这次下了大功夫,成功研制出第一台12英寸超精密晶圆减薄机,直接对标国际先进水平。这一次,清华大学克服困难,将大大提升国内芯片制造业的实力。看来中国终于开始在半导体领域发力了!难怪美国坐不住了。

中国半导体发力了!清华大学攻克难关,直接对标国际先进水平

图为玻璃晶片。

在此之前,网友们可能会有一个疑问,12英寸超高精度晶圆减薄机是什么样的东西?与中国在半导体领域的努力有什么样的关系?事实上,晶圆减薄机与中国在半导体领域的努力,其实是息息相关的:光刻后生产的半成品芯片,必须经过晶圆减薄机打磨至足够薄,才能封装成为真正的芯片。此外,超高精度晶圆减薄机也是生产全球技术领先产品和3D芯片的必备工具。

中国半导体发力了!清华大学攻克难关,直接对标国际先进水平

图为晶圆检测设备。

或者有人可能会好奇什么是3D芯片,但如果简单解释一下,其实3D芯片的含义很简单:如果你关注过电脑主板的广告或者包装盒,通常可以看到主板上标注了多少层结构,就可以知道3D芯片的概念是什么。

但3D芯片不像主板,只要把PCB堆叠封装在一起,光刻只是单面加工。如果晶片没有被抛光到足够薄,并且被掩模对准器蚀刻的底部接触被暴露,堆叠的晶片不能被制成3D芯片。因此,能够将晶片抛光到足够薄而不会对蚀刻结构造成损坏的超高精度晶片抛光机已经成为3D芯片生产中不可或缺的工具。

中国半导体发力了!清华大学攻克难关,直接对标国际先进水平

图为正在加工的工人和晶圆。

因此,从这里,我们可以知道一条大规模芯片生产线抛光12英寸晶圆的重要性。由于它可以抛光直径为12英寸的晶片,12英寸晶片抛光机可以处理的晶片面积比抛光时间相同甚至稍长的8英寸晶片或6英寸晶片大得多。

事实上,这种生产率优势对于3D芯片的生产来说是最重要的:考虑到只对需要叠层的芯片区域进行复合加工的难度远远大于直接将整个芯片进行叠层的难度,实际上,在3D芯片的大规模生产中,一个3D芯片需要在至少两个或更多的晶圆上刻蚀电路,并将其抛光到足够薄的程度。只有将它们粘贴在一起,才能形成3D芯片架构:这意味着3D芯片的制造需要比以前的2D或2.5D芯片多得多的晶圆。因此,12英寸超高精度晶圆减薄机对于3D芯片的加工制造将变得如此重要。难怪中国晶圆产能的提升会让美国彻底坐不住了。

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